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鹵素氧彈測試前處理裝置
2021-11-15 來自: 鶴壁市華晨電子科技有限公司 瀏覽次數(shù):497
鹵素氧彈測試前處理裝置使用注意事項簡介：
1、無論何時都應避免交替測量高濃度和低濃度鹵素含量。
2、氧彈內(nèi)表面的離子殘留痕跡很難沖洗，且觀察到殘留的元素會有從一個樣品傳遞到另一個樣品的傾向。
3、含有高濃度的鹵素的樣品在低濃度樣品之前測試時，下個樣品應重復試驗。
4、獲得一個或兩個較低的值時，如果它們不符合本方法的再現(xiàn)性的限值時，應當認為是可疑的，每個樣品之間加入一個空白試驗是一種良好的操作，非被分析的一系列樣品的濃度相似。
5、當樣品的組分或均勻性未知時，需要是重復分析樣品或三次分析樣品，然后報告時取所有測量的平均值。
注： 收集消耗氣體的殘留以及隨后空白樣品的吸收液是有意義的。
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